
多晶硅 工艺操作指南
01. TCS合成与STC分离
在自然界中通过硅的氧化物SiO2 ( 石英砂 )来制取工业硅( MG-Si ),其化学反应SiO2+C→Si+CO2↑ 将它与氯化氢( HCl )合成产生便于提纯的三氯氢硅气体,对此进行精馏,分离STC( SiCl4,四氯化硅 ) 。
02. TCS提纯
将在三氯氢硅的合成中生成的TCS(SiHCl3,三氯氢硅)精馏提纯,生成高纯度TCS。
03. CVD(沉积)
提纯后的高纯度TCS在还原炉内进行化学气相沉积后用高温分离法制成条状多晶硅产品。
在此过程中产生的气态混合物质进行低温分离后回收利用。
04. 破碎包装
将出炉的棒状多晶硅破碎成块状多晶硅、片状多晶硅等不同规格,然后筛分包装出厂。